「ナノの世界のエキスパート」をスローガンに、フォトファブリケーション一筋に約50年。新しいレーザー直接描画装置の導入により、より高精度、より高品質なパターンをお届けします。 光学、医療機器、半導体製造装置、精密、測定機器など活躍の場所は広範囲に及び、単品から量産までフレキシブルに対応いたします。
最大描画サイズ400㎜□の製作が可能です。MLA・流路・フレネルレンズ・DOE等、多種に渡り製作をしております。 レジストパターン後の、Ni電鋳・インプリントまで、各社様と協業を取っておりますので、レジストパターンだけではなく、インプリントまでの製作もご相談に応じさせて頂きます。
当社の現在の基礎となる製品であり、長い伝統と技術に裏付けされています。特に特注使用の製作を承ります。
スコープの目盛り、顕微鏡用の目盛など、各種目に対応しております。
レーザー直接描画装置(Laser Direct Write Pattern Generator)で直接描画された高精度なスタンダードスケールです。一般的な目盛りに加え、対物ミクロメーターの機能も備え、測定機器、半導体製造装置の精度測定及び評価、顕微鏡の倍率校正など、1本で多目的に使用することができます。