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manufacturing process
original
production
■レーザー直接描画装置による、原版(マスク)製作です。
■お客様よりお図面等頂戴し、データ製作の後描画致します。
■最小線幅1.0μm(Ｌ＆Ｓ)、最大描画サイズ400mm□ガラス基板まで描画が可能です。
■1枚からのマスクご注文承っております
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「ナノの世界のエキスパート」としてレーザー直接スタンダードスケール、エンコーダスリット板、フォトマスク、光学部品などの薄膜製品及び、
平面研磨加工で、光学、電子、電気、半導体など多くの分野で活躍しています。
■レーザー直接描画装置による、原版(マスク)製作です。
■お客様よりお図面等頂戴し、データ製作の後描画致します。
■最小線幅1.0μm(Ｌ＆Ｓ)、最大描画サイズ400mm□ガラス基板まで描画が可能です。
■1枚からのマスクご注文承っております
■コシブ精密ではクリーン化された作業室内で、２台のバッチ式スパッタリング装置と１台のインライン式スパッタリング装置を所有しております。
■主にクロム・酸化クロムなどの多層膜を成膜しております。
■コーティングされた基板にフォトマスクいわゆる原版をセットし、露光を行います。
■露光にはフォトマスクを密着させ露光する方法と、縮小投影させ露光する方法があります。コシブ精密では投影縮小露光機ステッパーを導入、近年の微細化に対応すべく最小線幅１μmの量産クロムパターンを製品化しております。
■露光された基板はスピンコーターなどで、現像・エッチングされ、パターンが出来上がります。
■最終的に写真工程で作られたパターンをお客様の希望最終形状に切断加工していきます。
■外径、内径を同時に加工するコアドリルマシンやダイシングマシンを駆使し、丸や四角等に加工していきます。
■これまで手動で行っていた面取りを自動化する等、コスト削減にも努めています。
■加工された製品は洗浄され、最終検査にまわります。最終検査では顕微鏡検査により全数目視検査が行われております。
■量産基板に対応すべく、自動検査装置を導入して検査のスピード化に対応しております。
■パターンの精度を保証すべく様々な測定を行い、製品の保証を行っております。
